依据《中华人民共和国民法典》、《中华人民共和国专利法》及相关法律法规的规定，参考专利技术实用性、创新性、市场价值等因素，经双方充分协商，并达成一致，拟将“半导体薄膜材料吸收系数计算平台V1.0”一项软件著作权予以转让。现将有关情况公告如下：

一、专利转让双方

专利受让方：中正材料有限公司

联系人：魏星       联系电话：186****4888

专利出让方：湖南理工学院

联系人：李昶       联系电话：137****5610

二、待转让软件著作权信息简表

三、待转让软件著作权情况简介

本著作涉及一种半导体薄膜材料的厚度、光学常数（折射率和消光系数）以及吸收系数的简易提取技术，仅根据透射光谱就可以提取半导体薄膜的厚度、光学常数以及吸收系数数据。一般而言，半导体薄膜的厚度、光学常数以及吸收系数可以采用表面等离子激元法、椭圆偏振法以及阿贝法（仅可测量折射率且不能测量厚度）进行精确的测试。但测试过程耗费较大的时间和人力成本，尤其是对于测量精度要求不高的薄膜样品而言。基于此，本著作提供了一种基于非线性规划模型的计算方法，仅需要用户提供半导体薄膜的透射光谱，通过简单的三步计算就能提取薄膜的大致厚度、光学常数以及吸收系数，并且该方法对于单层膜系统和双层膜系统均适用。本著作满足了用户对于半导体薄膜厚度、光学常数以及吸收系数的非精确、低成本、快速测量要求，能有效的节约用户的时间和人力成本。本著作配套的计算软件操作简单、结果可靠、效率高，适用于半导体薄膜厚度、光学常数以及吸收系数的测定。

四、价格形成过程

1.买方基本概况：中正材料有限公司是一家致力于光电材料器件软硬件研发、生产和销售于一体的高科技企业。公司立项之初，就是立足高水准，高品质，高配合度去打造。公司核心业务生产超薄超窄、双面蒸镀、高温高湿、低噪音、低功耗的光电材料膜等特殊功能产品。

2.软件专著功能说明：软件著作“半导体薄膜材料吸收系数计算平台V1.0”的整个系统包括数据前处理程序、数据处理程序以及数据后处理程序。整个系统的完成，实现了半导体薄膜厚度、光学常数以及吸收系数的快速提取功能，其操作简单、成本低、结果可靠、效率高。

3.价格测算依据：经双方多次接洽，鉴于公司作为国家高新技术企业研发和生产的需要，结合公司现有年产值和业务上升发展趋势，预估受该软件专著技术影响未来5年产值约在200万元左右。在借鉴参考全国技术转移公共服务平台相关软件专著价格的基础上，经过双方多次友好协商、科学测算及秉承利益共享原则，将未来5年公司增值的0.6%作为软件著作“半导体薄膜材料吸收系数计算平台V1.0”的转让价（200万元×0.6%=1.2万元），即交易价格1.2万元。

五、公示时间

公示时间为2024年11月10日至2024年11月24日，公示期满后，若无异议双方将正式履行转让手续，届时专利权将由“湖南理工学院”变更为“中正材料有限公司”。

六、情况反馈

如有任何异议，请在公示期内及时提出或向纪委反应（不接受匿名举报）。

科技联系人：欧阳劲进    联系电话：0730-8640174

纪委联系人：张倩      联系电话：0730-8640142

                               湖南理工学院

                              2024年11月9日